{"product_id":"ieej-zt20221-052","title":"RFバイアス付き誘導結合プラズマにおける容量結合","description":"\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eカテゴリ: \u003c\/strong\u003e全国大会\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e論文No: \u003c\/strong\u003e1-052\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eグループ名: \u003c\/strong\u003e【全国大会】令和4年電気学会全国大会論文集\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e発行日: \u003c\/strong\u003e2022\/03\/01\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eタイトル(英語): \u003c\/strong\u003eModeling of capacitive coupling in inductively coupled plasma with RF bias\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名: \u003c\/strong\u003eGanachevIvan（芝浦メカトロニクス）,中野晴香（芝浦メカトロニクス）,中村圭二（中部大学）\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e著者名(英語): \u003c\/strong\u003eIvan Ganachev (Shibaura Mechatronics),Haruka Nakano (Shibaura Mechatronics),Keiji Nakamura (Chubu University)\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003eキーワード: \u003c\/strong\u003eプラズマ|容量結合|誘導結合|エッチング|フォトマスク|位相差|plasma|capacitively coupled|inductively coupled|etching|photo mask|phase difference\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e要約(日本語): \u003c\/strong\u003eRFバイアス付きICPにおいて，アンテナとバイアスの干渉が知られてうて，位相差を360°を変えると2種類（一瘤および二瘤）の特性がでて，後者は容量結合対策を講じた場合しか出ない。一方，今までの我々の解析は二瘤特性しか出ていなかった。二瘤特性の原因は容量結合と仮説し，プラズマ解析で検証した。\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e本誌掲載ページ: \u003c\/strong\u003e70-71 p\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003e原稿種別: \u003c\/strong\u003e日本語\u003c\/p\u003e\u003cp\u003e\u003cstrong\u003ePDFファイルサイズ: \u003c\/strong\u003e395 Kバイト\u003c\/p\u003e","brand":"IEEJ-PDF","offers":[{"title":"PDFダウンロード（一般価格440円\/会員価格220円） \/ A4 \/ 1","offer_id":46402005467375,"sku":"IEEJ-ZT20221-052-PDF","price":440.0,"currency_code":"JPY","in_stock":true}],"thumbnail_url":"\/\/cdn.shopify.com\/s\/files\/1\/0718\/9512\/2159\/files\/IEEJ-PDF_ed6ca98c-6a1f-4e68-bf6a-8524326ef977.png?v=1744968173","url":"https:\/\/ieej.bookpark.ne.jp\/products\/ieej-zt20221-052","provider":"電気学会 電子図書館","version":"1.0","type":"link"}