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真空紫外光による合成樹脂の微細パターニング法の研究

真空紫外光による合成樹脂の微細パターニング法の研究

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 01am2-PS-187

グループ名: 第34回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2017/10/24

タイトル(英語): Study on fine patterning method on synthetic resin by vacuum ultraviolet light

著者名: 土井 智尭(東京工業大学),橋本 優生(東京工業大学),山本 貴富喜(東京工業大学)

著者名(英語): Tomotaka Doi| Yuki Hashmoto |Takatoki Yamamoto

キーワード: マイクロフルイディクス,エッチング,フォトリソグラフィ,合成樹脂,真空紫外光

要約(日本語): マイクロ流体デバイスの特長を活かすために、デバイスの微細化・高効率化・高精度化は常に要求される課題である。そのため、より複雑で微細な加工を施せる微細加工法が重要視されている。そこで我々は、マイクロ流体デバイスによく用いられる合成樹脂に対して加工を施すことができる新しい微細パターニング法の提案と実証を行った。その結果、真空紫外光を照射することで合成樹脂表面をエッチングできることが判明した。

要約(英語): In order to make full use of features of microfluidic devices, microfabrication methods capable of producing more complicated and fine structures are emphasized. So, we have proposed and demonstrated a new fine patterning technique that can be processed into synthetic resin. As a result, we found that synthetic resin can be etched by vacuum ultraviolet light exposure.

PDFファイルサイズ: 578 Kバイト

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