汎用ディープX線リソグラフィーシステム (BL11)を用いた微細加工特性の検討

カテゴリ: 部門大会

論文No: 01pm1-B-4

グループ名: 第34回「センサ・マイクロマシンとその応用システム」シンポジウム論文集

発行日: 2017/10/24

タイトル(英語): Micro processing characterization using general purpose deep X-ray lithography system (BL11)

著者名: 竹内 雅耶(兵庫県立大学),山口 明啓(兵庫県立大学),内海 裕一(兵庫県立大学)

著者名(英語): Masaya Takeuchi| Akinobu Yamaguchi |Yuichi Utsumi

キーワード: 放射光,LIGAプロセス,ディープX線リソグラフィーシステム,微細加工,マイクロシステム

要約(日本語): 兵庫県立大学所有の中型放射光施設NewSUBARUに新たなディープX線リソグラフィーシステム (BL11)を開発した。このシステムで生成されるX線ビームは高い光強度と高い平行度を有するが、その光強度分布は不均一な馬蹄形となる。本研究では、このシステムを使って、大面積領域でも均一な光強度分布でサンプルを露光する方法を検討した。計算の結果、10 cm × 10 cmのパターニングエリアでも均一露光できることを確認した。

要約(英語): We developed a new deep x-ray lithography system at the "NewSUBARU" synchrotron radiation facility of the University of Hyogo. This system can generate x-ray beam with high photon flux and high parallelism. In this study, we considered the beam scanning method that exposes sample with large area patterning and uniform exposure-dose.

PDFファイルサイズ: 475 Kバイト