ロッド部品の1ピースコーティング用に新開発された同軸型マグネトロンスパッタリング装置のHiPIMSおよびDCMS駆動の比較

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: DEI21026,EPP21026,HV21026

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 誘電・絶縁材料/【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー/【B】電力・エネルギー部門 高電圧合同研究会

発行日: 2021/01/19

タイトル(英語): Comparison of HiPIMS and DCMS drive of newly developed coaxial magnetron sputtering equipment for one-piece coating of rod parts

著者名: 末松 孝太(岐阜大学),上坂 裕之(岐阜大学),古木 辰也(岐阜大学)

著者名(英語): Kota Suematsu(Gifu University),Hiroyuki Kousaka(Gifu University),Tatsuya Furuki(Gifu University)

キーワード: ハードコーティング|インライン・フロー成膜|物理蒸着|同軸型マグネトロンスパッタ|高電力インパルス|窒化チタン|Hard coating|One-piece coating|PVD|Coaxial magnetron sputtering|HiPIMS|TiN

要約(日本語): ハードコーティング分野において，１ないし少数品のインライン・フロー成膜が可能な物理蒸着型の成膜技術が求められている．本研究では棒状の基材一本に対して均一に成膜することを目的とした基材包囲円筒ターゲットを有する同軸型マグネトロンスパッタ装置を新開発した．本装置を高電力インパルス駆動および直流電圧駆動によって駆動させ，駆動方法の違いがTiN膜の特性に及ぼす影響を明らかにした．

要約(英語): For the hard coating field, we have newly developed a physical vapor deposition (PVD) technology, or a coaxial magnetron sputtering equipment aimed for one-piece coating of rod parts. TiN films formed under HiPIMS and DCMS drive of the apparatus using cylindrical Ti target were compared.

本誌: 2021年1月23日誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会

本誌掲載ページ: 43-48 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,487 Kバイト