Ｓｉ含有ＤＬＣ成膜用テトラメチルシランプラズマ中のイオンおよびラジカルの質量分析

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: DEI21031,EPP21031,HV21031

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 誘電・絶縁材料/【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー/【B】電力・エネルギー部門 高電圧合同研究会

発行日: 2021/01/19

タイトル(英語): Mass Spectrometric Study on Ions and Radicals in Tetramethylsilane Plasma for Si-containing DLC Coating

著者名: 鈴木 駿(千葉工業大学),石井 晃一(千葉工業大学),渡邉 泰章(イノベーションサイエンス株式会社),小田 昭紀(千葉工業大学),太田 貴之(名城大学),上坂 裕之(岐阜大学)

著者名(英語): Shun Suzuki(Chiba Institute of Technology),Koichi Ishii(Chiba Institute of Technology),Yoshiaki Watanabe(Innovation Science Inc.),Akinori Oda(Chiba Institute of Technology),Takayuki Ohta(Meijo University),Hiroyuki Kousaka(Gifu University)

キーワード: プラズマＣＶＤ|ダイヤモンドライクカーボン|テトラメチルシラン|質量分析|Plasma-Enhanced CVD|Diamond-like carbon|Tetramethylsilane|Mass Spectromet

要約(日本語): Si-DLC膜は，通常のDLC膜よりも摩擦係数が低いため, 低摩擦性が要求される自動車部品等の摺動部品への応用が期待されている. 本成膜時には, テトラメチルシラン(TMS)によるプラズマCVDが主に用いられている. その際，Si-DLC成膜時の膜評価の研究は多く報告されているが，TMSプラズマ特性の解析はあまり行われていない. 本報告では,希ガスで希釈されたTMSプラズマの質量分析を行い，外部パラメータ依存性について解析したので報告する．

要約(英語): Since Si-containing diamond-like carbon (Si-DLC) thin films have lower friction coefficient compared with conventional DLC thin films, Si-DLC thin films have been expected for the coating technique of sliding parts in automobile. Plasma-enhanced chemical vapor deposition using tetramethylsilane (TMS) gas has been mainly utilized for the fabrication of Si-DLC thin films. In this article, mass spectrometric study on Ar-diluted TMS plasmas was performed, and then the influence of external parameters on mass spectra of the plasmas was examined.

本誌: 2021年1月23日誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会

本誌掲載ページ: 73-76 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 452 Kバイト