非平衡大気圧Ｈｅ／ＣＨ４パルスプラズマのシミュレーション －印加電圧の波形パラメータが電極への入射イオン特性に及ぼす影響－

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: DEI21032,EPP21032,HV21032

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 誘電・絶縁材料/【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー/【B】電力・エネルギー部門 高電圧合同研究会

発行日: 2021/01/19

タイトル(英語): Numerical Simulation of Nonthermal Atmospheric Pressure He/CH4 Pulsed Plasmas -Effect of Applied Voltage Waveform on Characteristics of Incident Hydrocarbon Ion towards Electrode-

著者名: 木村 勇太(千葉工業大学),藤田 諒(千葉工業大学),小田 昭紀(千葉工業大学),太田 貴之(名城大学),上坂 裕之(岐阜大学)

著者名(英語): Yuta Kimura(Chiba Institute of Technology),Ryo Fujita(Chiba Institute of Technology),Akinori Oda(Chiba Institute of Technology),Takayuki Ohta(Meijo University),Hiroyuki Kousaka(Gifu University)

キーワード: 大気圧プラズマ|ダイヤモンドライクカーボン|シミュレーション|パルスプラズマ|プラズマＣＶＤ|atmospheric-pressure plasma|diamond-like carbon|simulation|pulsed plasma|plasma-enhanced CVD

要約(日本語): DLC成膜には低圧プラズマCVDが多く用いられているが,成膜速度の向上や低コスト成膜を目的として大気圧プラズマCVDが近年研究されている. しかし, 現状の本方法でのDLC成膜では十分な硬度が得られていない. 本報告では，大気圧He/CH4パルスプラズマの空間一次元流体モデルを構築し, パルス電圧の波形パラメータがDLC膜の硬度に寄与する電極入射時の炭化水素イオンのエネルギーに及ぼす影響について解析したので, その結果を報告する._x000D_

要約(英語): Atmospheric pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition technique has been recently investigated for the purpose of higher deposition rate and lower cost of diamond like carbon thin films fabrication. In this article, a spatially one-dimensional fluid model of atmospheric pressure pulsed plasmas in helium/methane gas mixture was developed, and then the influence of waveform of applied pulsed voltage on incident energy of hydrocarbon ions towards electrode was analyzed.

本誌: 2021年1月23日誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会

本誌掲載ページ: 77-82 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 440 Kバイト