複数プロセスでの製造を可能とするLSI設計フローとPDKの構築

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: ECT21023

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子回路研究会

発行日: 2021/03/02

タイトル(英語): Development of LSI Design Flow and PDK for Multi-process Fabrication

著者名: 大河 亮(金沢大学),秋田 純一(金沢大学),松田 誠宙(ロジック・リサーチ),若杉 雄彦(ロジック・リサーチ),土屋 忠明(ロジック・リサーチ)

著者名(英語): Ryo Okawa(Kanazawa University),Junichi Akita(Kanazawa University),Masahiro Matsuda(Logic Research),Katsuhiko Wakasugi(Logic Research),Tadaaki Tsuchiya(Logic Research)

キーワード: ＬＳＩ設計|ＰＤＫ|設計ＩＰ|Ｓｃａｌａｂｌｅ　ＣＭＯＳ|エンジニアリングチェーン|低コストＬＳＩ設計|LSI Design|PDK|Design IP|Scalable CMOS|Engineering Chain|Low-Cost LSI Design

要約(日本語): 一般的なLSI設計は製造工場から提供されるPDKを用いて行われるが，設計データの工場間の非互換性など多くの制約がある．本稿では，NDAが不要，かつ柔軟なエンジニアリングチェーンのための，設計後に指定したプロセスに変換できる仮想PDKを提案する．アナログ回路およびデジタル回路に対応した複数のプロセスで製造可能な仮想PDKと設計フローについて述べる．

要約(英語): In the general LSI design, we use the PDK provided by the semiconductor manufacturers (fabs), where we have many restrictions, such as incompatibility among fabs. In this paper, we propose a virtual-PDK (vPDK) that does not require an NDA for the flexible engineering chain, that can be converted into the specified fabs after design. We describe the concept of vPDK for designing the analog and the digital circuits for various fabs.

本誌: 2021年3月5・6日電子回路研究会

本誌掲載ページ: 73-77 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,635 Kバイト