高強度フェムト秒レーザー照射によりシリコン回折格子へ過渡的に励起された表面プラズモンの観測

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD21010

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2021/03/26

タイトル(英語): Observation of surface plasmon polaritons on Si gratings transiently excited with an intense femtosecond laser pulse

著者名: 飯田 悠斗(東京農工大学),立田 実花(東京農工大学),宮地 悟代(東京農工大学)

著者名(英語): Yuto Iida(Tokyo University of Agriculture and Technology),Mika Tateda(Tokyo University of Agriculture and Technology),Godai Miyaji(Tokyo University of Agriculture and Technology)

キーワード: フェムト秒レーザー加工|表面プラズモン・ポラリトン|femtosecond laser processing|surface plasmon polaritons

要約(日本語): 高強度フェムト秒(fs)レーザーパルスを、シリコン回折格子に集光照射して表面を金属化した後、低強度fsパルスを照射すると、表面プラズモン・ポラリトン(SPP)を過渡的に励起できることを初めて示した。測定した時間分解反射率により、SPP波長や伝搬長、振幅が高強度fsパルスのフルーエンスと低強度のfsパルスの遅延時間によって変化すること観測し、SPPを最も強く励起できる条件を初めて明らかにした。

要約(英語): We have demonstrated that a weak femtosecond (fs) laser pulse can transiently excite surface plasmon polaritons (SPPs) on a silicon grating metalized by an intense fs pulse. The time-dependent reflectivity measurement showed, for the first time, that the properties of the SPPs can be changed by the fluence of the intense pulse and the time delay of the weak pulse.

本誌: 2021年3月29日光・量子デバイス研究会

本誌掲載ページ: 1-5 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,178 Kバイト