Si含有DLC成膜用テトラメチルシランプラズマ特性の計測 -プラズマ特性に及ぼすガス流量および投入電力の影響-

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP21052

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2021/05/17

タイトル(英語): Measurement of Tetramethylsilane Plasma Characteristics for Si-containing DLC Deposition -Effect of gas flow rate and input power on plasma characteristics-

著者名: 石井 晃一(千葉工業大学),鈴? 駿(千葉工業大学),渡邉 泰章(イノベーションサイエンス株式会社),?? 昭紀(千葉工業大学),上坂 裕之(岐??学),太? 貴之(名城?学)

著者名(英語): Koichi Ishii(Chiba Institute of Technology),Shun Suzuki(Chiba Institute of Technology),Yoshiaki Watanabe(Innovation Science Inc.),Akinori Oda(Chiba Institute of Technology),Hiroyuki Kousaka(Gifu University),Takayuki Ohta(Meijo University)

キーワード: ダイヤモンドライクカーボン|プラズマＣＶＤ|テトラメチルシラン|質量分析|ラングミュアプローブ|Diamond-Like-Carbon|Plasma CVD|tetramethylsilane| Mass spectrometry|Langmuir probe

要約(日本語): Si含有DLC(Diamond-Like Carbon)膜は通常のDLC膜よりも摩擦係数が低いため自動車部品のしゅう動部品等に用いられている。本成膜時には，テトラメチルシランガスを用いたプラズマCVD法が主に用いられている。その際，ガス流量および投入電力を変化させるとSi-DLC膜の高硬度化もしくは成膜速度の向上が報告されているが，プラズマ特性の計測はあまり行われていない。そこで本報告ではこれらパラメータを変化させた際のプラズマ特性の計測を行ったので報告する。

要約(英語): Si-DLC (Diamond-Like-Carbon) film has been utilized for sliding parts of automobiles because its friction coefficient is lower than that of ordinary DLC films. Plasma-enhanced chemical vapor deposition method using tetramethylsilane (TMS) gas is mainly used for the films deposition. In this process, it has been reported that the Si-DLC film becomes harder or the deposition speed is improved by changing the gas flow rate and the input power, however the plasma characteristics in TMS gas have not been clarified so far. In this paper, we examined the influence of gas flow rate and input power on the plasma characteristics using mass spectrometry and Langmuir probe method.

本誌: 2021年5月20日-2021年5月21日放電・プラズマ・パルスパワー研究会

本誌掲載ページ: 99-104 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,015 Kバイト