VHF帯CH4プラズマを用いた真鍮上炭素系膜の剥離に与える膜厚の影響

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP21053

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2021/05/17

タイトル(英語): Influence of thickness on peel-off of carbon-based film on brass in VHF CH4 plasma

著者名: 北爪 雅己(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学)

著者名(英語): Masaki Kitazume(Ibaraki University),naoyuki sato(Ibaraki University)

キーワード: thickness effect| carbon-based film| DLC|VHF excitation ICP|probe measurements|OES

要約(日本語): 電気的に浮遊な軟質基材と炭素系薄膜の密着性を改善するため，VHF帯で励起されたプラズマ制御の視点で，CH4からの炭素系薄膜を合成している．今回は，炭素系薄膜と真鍮基板間の密着性に与える膜厚の効果について報告する．

要約(英語): In order to improve the adhesion between electrically floating soft substrates and carbon-based thin films, carbon-based thin films from CH4 are synthesized from the viewpoint of plasma control excitedin the VHF band. In this paper, we report the effect of film thickness on adhesion between carbon-based thin films and brass substrates.

本誌: 2021年5月20日-2021年5月21日放電・プラズマ・パルスパワー研究会

本誌掲載ページ: 105-109 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,271 Kバイト