VHF帯CH4プラズマを用いた真鍮上炭素系膜の剥離に与えるN2添加の効果

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP21054

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2021/05/17

タイトル(英語): Effects of N2 gas addition on peel-off of carbon-based film on brass in VHF CH4 plasma

著者名: 松野 宗一郎(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学)

著者名(英語): Souichirou Matsuno(Ibaraki University),Naoyuki Sato(Ibaraki University)

キーワード: 炭素系薄膜|Ｎ２添加|ＤＬＣ|ＶＨＦ帯励起|ＩＣＰ|プローブ計測，ＯＥＳ|carbon-based film|N2 addition|DLC|VHF exitation|ICP|probe measurements ,OES

要約(日本語): 電気的に浮遊な軟質基材と炭素系膜の密着性を改善するため，VHF帯で励起されたプラズマ制御の観点で，CH4からの炭素系膜を合成している．今回は，真鍮上炭素系膜の剥離に与えるN2添加の効果について報告する．

要約(英語):

本誌: 2021年5月20日-2021年5月21日放電・プラズマ・パルスパワー研究会

本誌掲載ページ: 111-115 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,106 Kバイト