３次元超解像顕微鏡法に用いる複合型２波長位相板の作製とダークホールの生成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD21031

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2021/06/13

タイトル(英語): Generation of a dark hole by a combined two-color phase plate for 3D super-resolution microscopy

著者名: 永井 宏明(NTTアドバンステクノロジ株式会社),熊谷 寛(北里大学),Bokor Nandor(Budapest University of Technology and Economics),池滝 慶記(オリンパス株式会社)

著者名(英語): Koumei Nagai(NTT Advanced Technology Corporation),Hiroshi Kumagai(Kitasato University),Nandor Bokor(Budapest University of Technology and Economics),Yoshinori Iketaki( Olympus Corporation)

キーワード: 超解像顕微鏡|蛍光抑制|位相制御|３次元|エッチング|Super-resolution microscopy|Fluorescence depletion|Two-color|Phase control|etching process

要約(日本語): 蛍光抑制と波面制御光学系による超解像顕微鏡法では励起光と蛍光抑制光の２波長の位相を制御する機能性位相板の設計と高精度な作製が重要である。本開発では、蛍光抑制光の平面状の等位相面を螺旋状に変成する螺旋状位相板を複数組み合わせた複合型位相板を設計しフォトプロセス技術を用いて高精度に作製した。さらにこの位相板を超解像顕微鏡に設置することで蛍光抑制光の三次元のダークホールを生成し、その評価を行った。

要約(英語): We designed, fabricated and evaluated a combined two-color phase plate (CTPP) for super-resolution microscopy based on up-conversion fluorescence depletion. A CTPP is combined a plurality of phase plates that deform the equiphase plane of fluorescence suppression light from a flat surface to a spiral shape while maintaining the shape of the equiphase plane of the excitation light. The CTPP was fabricated using the exposure and etching processes with high accuracy used in semiconductor manufacturing. Furthermore, by installing this phase plate in a super-resolution microscope, a three-dimensional dark hole of fluorescence suppression light was generated and evaluated.

本誌: 2021年6月16日光・量子デバイス研究会

本誌掲載ページ: 49-52 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 755 Kバイト