パラメータ可変超短パルスレーザー加工システムの開発とそのセラミックス加工への応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD21036

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2021/07/17

タイトル(英語): Development of Variable Parameter Ultrashort Pulse Laser Processing System and its Application to Ceramic Processing

著者名: 高田 英行(産業技術総合研究所),吉富 大(産業技術総合研究所),奈良崎 愛子(産業技術総合研究所),小林 洋平(東京大学)

著者名(英語): Hideyuki Takada(The National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Dai Yoshitomi(The National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Aiko Narazaki(The National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Y

キーワード: レーザー加工|超短パルスレーザー|セラミックス|laser processing|ultrashort laser|ceramic

要約(日本語): レーザー加工におけるパラメータ空間は非常に広大なため、最適な加工条件の探索には膨大な労力と時間がかかる。そこで、最適加工条件を効率よく短時間で探索するために、単一の制御システムからパラメータ可変超短レーザーと加工機及び観察系を同時プログラミング制御可能なパラメータ可変超短パルスレーザーレーザー加工装置の開発を行った。本講演では、その開発と難加工材の一つであるセラミックスの加工について報告する。

要約(英語): Since the parameter space in laser processing is very vast, it takes a lot of effort and time to search for the optimum processing conditions. Therefore, in order to search for the optimum processing conditions efficiently and in a short time, we have developed a parameter tunable ultrashort pulsed laser processing system that enables simultaneous programming control of a parameter variable ultrashort laser, a processing system and an observation system from a single control system. In this presentation, we report the development of the system and the processing of ceramics, which is one of the difficult materials to process.

本誌: 2021年7月20日光・量子デバイス研究会

本誌掲載ページ: 13-16 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,820 Kバイト