鉄-ガリウム合金薄膜の磁歪特性の評価

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS21039

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2021/07/23

タイトル(英語): Evaluation of magnetostriction properties of Iron-Gallium alloy thin films

著者名: 黄 胤禎(東北大学),小野 崇人(東北大学)

著者名(英語): Yin-Chen Huang(Tohoku University),Takahito Ono(Tohoku University)

キーワード: ガルフェノール|薄膜|電解めっき|スパッタリング|磁歪|Galfenol|thin film|electrodeposition|sputtering|magnetostriction

要約(日本語): 鉄-ガリウム合金（ガルフェノール）は磁歪材料の1つであり、その磁気的、機械的、および磁歪特性はアクチュエータの用途にとって重要である。スパッタリングと電解めっきによって作製されたガルフェノール薄膜を評価・比較した。 電解めっきにより形成したガルフェノール薄膜は、大きなヤング率を示した。スパッタリングにより形成したガルフェノール薄膜は、小さなおよび大きな磁歪係数～300を示した。

要約(英語): Iron-Gallium alloy (Galfenol) is one of the magnetostriction materials, and its magnetic, mechanical and magnetostrictive properties are important for actuator applications. Galfenol thin films prepared by sputtering and electrodeposition are evaluated and compared. The electrodeposited Galfenol thin film shows large mechanical stiffness. The sputtered Galfenol thin film exhibits smaller coercive force and higher magnetostriction coefficient ~300.

本誌: 2021年7月26日－2021年7月27日マイクロマシン・センサシステム研究会

本誌掲載ページ: 21-24 p

原稿種別: 英語

PDFファイルサイズ: 744 Kバイト