歪み印加手法を用いたキャビティ封止型グラフェン共振器のfQ積向上にむけた検討

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS21046

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2021/07/23

タイトル(英語): Examination for improving fQ product of cavity sealed graphene-based resonator by strain application method

著者名: 坪内 麟太郎(豊橋技術科学大学),上坂 淳平(豊橋技術科学大学),郷 幸佑(豊橋技術科学大学),野田 俊彦(豊橋技術科学大学),澤田 和明(豊橋技術科学大学),高橋 一浩(豊橋技術科学大学)

著者名(英語): Rintaro Tsubouchi(Toyohashi University of Technology),Junpei Uesaka(Toyohashi University of Technology),Kosuke Go(Toyohashi University of Technology),Toshihiko Noda(Toyohashi University of Technology),Kazuaki Sawada(Toyohashi University of Technology),Kaz

キーワード: グラフェン|共振器|共振周波数測定|ＳＵ－８|熱収縮|ｆＱ積|Graphene|resonator|resonance frequency measurement|SU-8|heat-shrinking|fQ product

要約(日本語): グラフェンは極めて薄く、低密度な素材であるためMEMS共振器の可動膜として期待されている。一方で、薄く軽いグラフェン膜は共振周波数とQ値が低い課題がある。本研究では、架橋グラフェン上にSU－8パターンを形成し、SU－8の熱収縮によって１軸、および２軸歪み印加によるfQ積の向上を提案した。１軸、２軸共に0.27%、0．05%の歪み印加を達成し、１軸歪みデバイスでは共振周波数及びQ値において25%の向上を実現した。

要約(英語): Graphene is an extremely thin and low-density material, so it is expected as a movable film for MEMS resonators. On the other hand, the thin and light graphene film has a problem that the resonance frequency and the Q value are low. In this study, we formed a SU-8 pattern on suspended graphene and proposed an improvement in fQ product by applying uniaxial and biaxial strains due to thermal shrinkage of SU-8. Achieved 0.27% and 0.05% strain application for both the 1-axis and 2-axis, and achieved a 25% improvement in resonance frequency and Q value for the 1-axis strain device.

本誌: 2021年7月26日－2021年7月27日マイクロマシン・センサシステム研究会

本誌掲載ページ: 51-55 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,543 Kバイト