小型デバイス応用を鑑みた真空アーク蒸着法によるNd-Fe-B系磁石膜の作製

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG21092

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2021/08/03

タイトル(英語): VAD (Vacuum Arc Deposition) - prepared Nd-Fe-B film magnets applied to small devices.

著者名: 日笠山 航也(長崎大学),山下 昂洋(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Koya Higasayama(Nagasaki university),Akihiro Yamashita(Nagasaki university),Takeshi Yanai(Nagasaki university),Masaki Nakano(Nagasaki university),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki university)

キーワード: 真空アーク蒸着法|Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ系磁石膜|二段化|vacuum arc deposition|Nd-Fe-B film magnets|knick

要約(日本語): 我々は真空アーク蒸着法を用い5 mm角程度の等方性Nd-Fe-B厚膜磁石の作製を検討してきた。その結果、化学量論組成に比べNd-poorな組成では試料中心部の２段化の抑制等を実現してきた。本発表では，Nd-rich組成試料に対し同様な検討を行うとともに，「膜厚・組成分布を抑制した成膜面積の増加」に関しても検討したので報告する。

要約(英語): We have already prepared isotropic Nd-Fe-B film magnets (□5 mm) using a vacuum arc deposition method and succeed in the suppression of knick for the obtained films with Nd-poor composition compared with the stoichiometric one. In the report, the above-mentioned experiments were carried out for Nd-rich Nd-Fe-B film magnets. Furthermore, the increase of deposition area was tried in the Nd-rich films.

本誌: 2021年8月6日マグネティックス研究会

本誌掲載ページ: 51-54 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 584 Kバイト