セル内壁の室温原子層堆積コーティングによる光ポンピング原子のスピン緩和防止効果

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD21040

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2021/08/24

タイトル(英語): Effect of preventing spin relaxation of optical pumping atoms by room temperature atomic layer deposition coating on the inner wall of the cell

著者名: 高木 駿(北里大学),熊谷 寛(北里大学),武田 俊(北里大学)

著者名(英語): Shun Takagi(Kitasato University),Hiroshi Kumagai(Kitasato University),Shun Takeda(Kitasato University)

キーワード: 室温原子層堆積|スピン緩和防止コーティング|Room temperature atomic layer deposition|Polarized spin relaxation prevention coating

要約(日本語): 偏極スピン緩和の防止を目的として、室温原子層堆積法によってセル内壁に無機有機ハイブリッドの酸化アルミニウム薄膜を形成し、その緩和防止効果を調べた。また、薄膜の材料による密度や光学特性の比較も行った。

要約(英語): For the purpose of preventing polarized spin relaxation, an inorganic-organic hybrid aluminum oxide thin film was formed on the inner wall of the cell by the room temperature atomic layer deposition method, and its relaxation prevention effect was investigated. We also compared the density and optical properties of thin film materials.

本誌: 2021年8月27日光・量子デバイス研究会

本誌掲載ページ: 5-8 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 553 Kバイト