窒素プラズマ中エキシマレーザ照射による金属窒化物の低温成膜の検討

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EFM21015

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子材料研究会

発行日: 2021/11/15

タイトル(英語): low-temperature fabrication of metal nitride films by excimer laser irradiation in nitrogen plasma

著者名: 袖山 和斗(長岡技術科学大学),西川 雅美(長岡技術科学大学),中島 智彦(産業技術総合研究所),土屋 哲男(産業技術総合研究所),石橋 隆幸(長岡技術科学大学)

著者名(英語): Kazuto Sodeyama(Nagaoka University of Technology),Masami Nishikawa(Nagaoka University of Technology),Tomohiko Nakajima(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Tetsuo Tsuchiya(National Institute of Advanced Industrial Science and

キーワード: エキシマレーザ|窒素プラズマ|窒化|低温成膜|窒化チタン|窒素ドープ|excimer laser|nitrogen plasma|nitriding|low-temperature coating|titanium nitride|nitrogen doping

要約(日本語): 金属および酸化物を窒化させるには、窒素またはアンモニア雰囲気の下で高温熱処理が必要であるため、有用な機能を有する金属窒化物の使用には制限がある。本研究では、金属窒化物の低温作製を目的として、エキシマレーザ照射プロセスに窒素プラズマの融合効果を検討した。室温でTiの金属膜に窒素プラズマ中でエキシマレーザ照射すると、照射時間に伴い、αTi相の八面体サイトに窒素がドープされる傾向を確認した。

要約(英語): To nitride metals and metal oxides, high temperature heat treatment in nitrogen or ammonia atmosphere is required, which limits the use of metal nitrides with useful functions. In this study, an excimer laser irradiation process in nitrogen plasma was developed for the purpose of low-temperature fabrication of metal nitride films. When the Ti film was irradiated by the laser in nitrogen plasma at room temperature, it was confirmed that nitrogen was doped into the octahedral site of the αTi phase.

本誌: 2021年11月18日-2021年11月19日電子材料研究会-1

本誌掲載ページ: 51-52 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 639 Kバイト