グリオキシル酸Cu錯体/Cuナノ粒子混合インクを用いたフェムト秒レーザ直接描画特性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD22013

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2022/03/25

タイトル(英語): Femtosecond laser direct writing properties using glyoxylic acid Cu complex/Cu nanoparticle mixed ink

著者名: 溝尻 瑞枝(長岡技術科学大学),成島 淳也(長岡技術科学大学),大石 知司(芝浦工業大学)

著者名(英語): Mizue Mizoshiri(Nagaoka University of Technology),Junya Narushima(Nagaoka University of Technology),Tomoji Ohishi(Shibaura Institute of Technology)

キーワード: フェムト秒レーザ描画|グリオキシル酸Ｃｕ錯体|Ｃｕナノ粒子|混合インク|femtosecond laser direct writing|glyoxylic acid copper complex|Cu nanoparticles|mixed ink

要約(日本語): 厚膜Cuパターンの大気中直接描画を目指し，グリオキシル酸Cu錯体とCuナノ粒子の混合インクを用いたフェムト秒レーザ描画特性を明らかにした．波長515 nmのフェムト秒レーザパルスをインク膜に集光照射したところ，塗布直後のインク膜厚と同等の厚さ5 μmのパターンが描画形成された．グリオキシル酸Cu錯体の還元描画によるパターンと同等の抵抗が得られたことから，段差のあるデバイス間の配線への応用が期待できる．

要約(英語): Femtosecond laser direct writing properties using a glyoxylic acid Cu complex/Cu nanoparticle mixed ink was investigated. When femtosecond laser pulses with the wavelength of 515 nm were focused onto the mixed film, the thick patterns of 5 μm thickness was formed by single scanning. The resistance of the patterns was almost the same as that of the patterns fabricated using glyoxylic acid Cu complex. This thick patterning technique is useful for wiring the different height of the devices.

本誌: 2022年3月28日光・量子デバイス研究会

本誌掲載ページ: 31-33 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,188 Kバイト