RFプラズマへのパルス磁場印加によるイオンビーム生成の数値解析

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP22064

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2022/05/15

タイトル(英語): Numerical study on generation of ion beam by applying pulsed magnetic field to RF plasma

著者名: 松澤 匠(富山大学),竹崎 太智(富山大学),伊藤 弘昭(富山大学)

著者名(英語): Takumi Matsuzawa(University of Toyama),Taichi Takezaki(University of Toyama),Hiroaki Ito(University of Toyama)

キーワード: ＲＦプラズマ|イオンビーム|数値シミュレーション|RF plasma|Ion beam|Numerical simulation

要約(日本語): 大電流イオンビームの実現が期待されているが，従来のRFプラズマを用いたイオン源では，空間電荷制限電流によりビーム電流が制限される。そのため，プラズマの電荷準中性を保持したままプラズマを輸送・加速する機構が要求される。本研究ではRFプラズマにパルス磁場を印加した場合のプラズマ挙動を数値シミュレーションにより解析した。数値解析結果はパルス磁場印加によるイオンビームの生成過程を示した。

要約(英語): A high-current ion beam is expected to be realized. In a conventional ion source using RF plasma, the beam current is limited by space charge limited current. Therefore, a mechanism is required to transport and accelerate the plasma while maintaining charge neutrality of the plasma. In this study, we investigated the plasma behavior when a pulsed magnetic field is applied to RF plasma by numerical simulation. The numerical result showed the generation process of an ion beam by applying a pulsed magnetic field.

本誌: 2022年5月18日-2022年5月20日放電・プラズマ・パルスパワー研究会-3

本誌掲載ページ: 21-23 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,493 Kバイト