Y123薄膜に対する積層欠陥導入の試み

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MC22008,ASC22013

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 金属・セラミックス/【B】電力・エネルギー部門 超電導機器合同研究会

発行日: 2022/11/12

タイトル(英語): Attempts on the introduction of stacking faults for Y123 thin films.

著者名: 大崎 瑛介(青山学院大学),小澤 美弥子(青山学院大学),坂井 秀成(青山学院大学),堀口 佳吾(青山学院大学),元木 貴則(青山学院大学),下山 淳一(青山学院大学),中村 新一(TEP)

著者名(英語): Eisuke Osaki(Aoyamagakuin University),Miyako Kozawa(Aoyamagakuin University),Shusei Sakai(Aoyamagakuin University),Keigo Horiguchi(Aoyamagakuin University),Takanori Motoki(Aoyamagakuin University),Jun-ichi Shimoyama(Aoyamagakuin University),Shin-ichi Nak

キーワード: 超伝導|薄膜|ＲＥ１２３|ＲＥＢＣＯ|ＭＯＤ法|積層欠陥|Superconductivity|Thin films|RE123|REBCO|MOD method|Stacking faults

要約(日本語): 我々の最近の研究で、Y123薄膜を含水蒸気酸素雰囲気中、500°C以下の低温でアニールすることにより、CuO二重鎖層に類似した構造の積層欠陥が生成しその濃度は水蒸気分圧、温度、熱処理時間の関数として制御できることを見出している。本研究では、欠陥の少ない薄膜が得られるフッ素フリーMOD法を用いてSrTiO3(100)単結晶基板上に作製したY123薄膜に対し、同様な積層欠陥導入を試みており、Agコート後のアニールが有効であることを見出した。

要約(英語): Our recent studies have revealed that stacking faults of similar structure to CuO double chain layer generate in Y123 thin films by humid oxygen annealing below 500°C. In addition, concentration of the stacking faults is controlled by partial pressure of water vapor, temperature and duration time. In this study, a new method for introducing similar stacking faults to Y123 thin films has been explored and annealing after silver coating is found to be an effective method._x000D_ _x000D_

本誌: 2022年11月15日金属・セラミックス/超電導機器合同研究会

本誌掲載ページ: 1-5 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,389 Kバイト