凹曲面への微細パターン転写における位置合わせと歪抑制

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS23023

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2023/06/27

タイトル(英語): Alignment and distortion suppression in micro-pattern transfer on concave surfaces

著者名: 久木野 陽充(豊田工業大学),斉藤 誠法(アイセロ),佐々木 実(豊田工業大学)

著者名(英語): Harumichi Kukino(Toyota Technological Institute),Shigenori Saito(AICELLO CORPORATION),Minoru Sasaki(Toyota Technological Institute)

キーワード: 三次元リソグラフィ|凹球面金型|パターン歪|位置合わせ|Three-dimensional lithography|Concave spherical die|Pattern deformation|Alignment

要約(日本語): 微細パターンの潜像付きレジストシートを，深さ11mmで100mm角の凹球面金型に貼る三次元リソグラフィに取り組んだ．シートのPVA層に観察し易い標準パターンを印刷して,その変形を測定した.パターンの斜め歪みは，シートの固定方法を変えることで改善し，微細パターンと金型を位置合わせする簡易な器具を導入した．結果，パターンは平面から真下に射影される状態に近づき，位置ずれは全体で約±0.4mmとなった.

要約(英語): The micro-pattern is transferred on 11mm-deep concave spherical die by attaching the resist/PVA sheet, on that the standard lattice pattern is printed. The lattice positions are measured and the pattern deformation is observed. New jig is developed to minimize the pattern deformation and enable the alignment. The position error becomes ±0.4mm.

本誌: 2023年6月30日-2023年7月1日マイクロマシン・センサシステム研究会

本誌掲載ページ: 13-16 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,823 Kバイト