紫外レーザ照射によるSi太陽電池表面の高密度ナノドット構造形成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV23008

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 光応用・視覚研究会

発行日: 2023/08/26

タイトル(英語): Fabrication of high dense nano dot structures on si solar cell surface by irradiation of ultla violet laser pulses

著者名: 平井 健太(大阪産業大学),田中 朋世(大阪産業大学),橋田 昌樹(東海大学),坂上 仁志(核融合科学研究所),草場 光博(大阪産業大学)

著者名(英語): Kenta Hirai(Osaka Sangyo University),Tomoyo Tanaka(Osaka Sangyo University),Masaki Hashida(Tokai University),Hitoshi Sakagami(National Institute for Fusion Science ),Mitsuhiro Kusaba(Osaka Sangyo University )

キーワード: シリコン太陽電池|融解閾値|高密度ナノドット構造|エキシマレーザ|silicon solar cells|melting threshold|high dense nano dot structure|excimer laser

要約(日本語): 本実験では、KrFエキシマレーザ（λ= 248nm, τ = 20ns)照射されたシリコン太陽電池の融解閾値を調べた。融解閾値以下のKrFエキシマレーザの照射で高密度のナノドット構造の形成に成功した。

要約(英語): The melting threshold of silicon solar cells irradiated with KrF excimer laser (λ= 248nm, τ = 20ns) was investigated.We found that the high dense nano dot structure was sucessfully formed with irradiation of KrF excimer laser below melting threshold fluence.

本誌: 2023年8月29日光応用・視覚研究会

本誌掲載ページ: 7-10 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 972 Kバイト