プラズマCVDにおけるその場・実時間赤外分光計測

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP23077

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2023/10/02

タイトル(英語): In-situ and Real-time Infrared Spectroscopy of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

著者名: 桒田 篤哉(福岡大学),大石 侑叶(福岡大学),東田 遼平(福岡大学),貝田 亮太郎(福岡大学),篠原 正典(福岡大学)

著者名(英語): Atsuya Kuwada(Fukuoka University),Yuto Ooishi(Fukuoka University),Ryohei Higashida(Fukuoka University),Ryotaro Kaida(Fukuoka University),Masanori Shinohara(Fukuoka University)

キーワード: プラズマ支援化学気相堆積|多重内部反射赤外吸収分光法|ヘリウム添加|ＴＥＯＳ|PECVD|MIR-IRAS|He addition|TEOS

要約(日本語): プラズマ支援化学気相堆積法(PECVD)における膜の堆積過程を多重内部反射赤外吸収分光法(MIR-IRAS)を用いて調べてきた。これまでの研究から、原料ガスにアセチレン、キャリアガスにヘリウムを使用すると、気相中で原料分子の分解が進むことがわかった。本研究では、原料としてTEOSなど他の分子を使用し、プラズマ中へのヘリウム添加の有無で膜中の化学結合状態の変化について調べた。

要約(英語): Plasma enhanced chemical vapor deposition process has been investigated with MIR-IRAS. Addition of He enhanced decomposition of source molecules in plasma. In this study, we investigated a plasma deposition process using TEOS as source molecule. We present the changes in the deposition process due to He addition.

本誌: 2023年10月5日放電・プラズマ・パルスパワー研究会

本誌掲載ページ: 13-16 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 974 Kバイト