ダイヤモンド膜成長用の任意波形に変調した減圧Ar/CH4/H2誘導熱プラズマの電磁熱流体解析

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP23078

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2023/10/02

タイトル(英語): Numerical Investigation on Ar/CH4/H2 Induction Thermal Plasma Field with Arbitrary Power Modulation at Reduced Pressures for Diamond Film Growth

著者名: 細井 大和(金沢大学),東 泰造(金沢大学),田中 康規(金沢大学),中野 裕介(金沢大学),石島 達夫(金沢大学)

著者名(英語): Yamato Hosoi(Kanazawa University),Taizo Higashi(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Yusuke Nakano(Kanazawa University),Tatsuo Ishijima(Kanazawa University)

キーワード: 単結晶ダイヤモンド|誘導熱プラズマ|変調|電磁熱流体解析|Diamond|Modulation|Thermal plasma|Simulation

要約(日本語): 筆者らは，独自開発した変調型誘導熱プラズマ(MITP) によるダイヤモンド膜の高速成長を検討している。MITP では基板に照射される熱流束・ラジカル粒子束を詳細に制御することができる。本報告では，減圧下におけるダイヤモンド膜成長に適した入力電力変調波形を調査するため，入力電力変調波形を矩形波および3条件の任意波形に変更し，電磁熱流体解析により温度場・流速場・化学組成場を求め，さらにラジカル粒子束を計算した。

要約(英語): In the present study, we numerically calculated the thermofluid fields of Ar modulated induction thermal plasma (MITP) such as the temperature, gas flow velocity fields, and mole fraction distributions of feedstock gas mixture CH4/H2 for different modulated input power waveforms for diamond growth. The modulation waveform favorable for diamond growth was also introduced from the calculation results.

本誌: 2023年10月5日放電・プラズマ・パルスパワー研究会

本誌掲載ページ: 17-21 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,808 Kバイト