ZnO-TCFの低抵抗化に向けたZn-O2混合プラズマのガス圧力（流量・排気速度）の効果

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP23080

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2023/10/02

タイトル(英語): Effect of gas pressure (flow rate/pumping speed) of Zn-O2 mixed plasma toward low resistance of ZnO-TCF

著者名: 藤田 黎輔(茨城大学),佐藤 直幸(茨城大学)

著者名(英語): Reisuke Fujita(Ibaraki University),Naoyuki Sato(Ibaraki University)

キーワード: 透明導電膜|ＺｎＯ|混合ガスプラズマ|抵抗率|膜厚|ガス流量

要約(日本語): ICP合成においてZnO透明導電膜のシート抵抗Rsの低減を狙い,抵抗率低減も考慮に入れながら堆積時間の増加によりシート抵抗を下げている.本実験では，ZnとOの組成制御のみで，主に酸素流量が一定の下でZn蒸発量を増してキャリア密度の上昇から低抵抗化を狙っているが,過剰になるとRsが上昇に転じて光透過率が減少してしまう.最少シート抵抗Rs*が現れる手前で，Rsの堆積時間依存性を観察していると，ある時間からRsが上昇してしまう.そこで,膜厚の堆積時間依存性を吟味して酸素流量と排気速度を変えながら，Rs*のガス圧力依存性について報告する．

要約(英語): Aiming to reduce the sheet resistance Rs of the ZnO transparent conductive film in the ICP synthesis, the sheet resistance was lowered by increasing the deposition time while taking account of the reduction in resistivity. In addition, under a constant oxygen flow rate, the amount of Zn evaporated is increased to increase the carrier density, thereby reducing the resistance. If we observe the deposition time dependence of Rs before * appears, Rs starts to rise after a certain time. , and the gas pressure dependence of Rs*.

本誌: 2023年10月5日放電・プラズマ・パルスパワー研究会

本誌掲載ページ: 29-32 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,251 Kバイト