高温CO2/O2アーク消弧ガスへの30%C2F4/10%Cuの2種蒸気混入下におけるCu原子の存在温度域と衝突電離係数への影響-温度4000 K～300 K-

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP23091,SP23033,HV23062

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー/【B】電力・エネルギー部門 開閉保護/【B】電力・エネルギー部門 高電圧合同研究会

発行日: 2023/11/03

タイトル(英語): Presence of Cu atom and its influence on collision ionization coefficient in high temperature CO2/O2 arc quenching gas mixed with 30%C2F4 and 10%Cu vapor at 4000-300 K

著者名: 内山 隼輔(名古屋大学),横水 康伸(名古屋大学),兒玉 直人(名古屋大学),真島 周也(東芝エネルギーシステムズ),森 正(東芝エネルギーシステムズ),井上 徹(東芝エネルギーシステムズ)

著者名(英語): Shunsuke Uchiyama(Nagoya University),Yasunobu Yokomizu(Nagoya University),Naoto Kodama(Nagoya University),Amane Majima(Toshiba Energy Systems & Solutions Corporation),Tadashi Mori(Toshiba Energy Systems & Solutions Corporation),Toru Inoue(Toshiba Energy Systems & Solutions Corporation)

キーワード: ＣＯ２／Ｏ２混合ガス|ＰＴＦＥ|銅蒸気|構成化学種|電子衝突反応|衝突電離係数|CO2/O2 gas mixture|PTFE|Copper vaper|Gas component species|Electron collision processes|Collision ionization coefficient

要約(日本語): 3000 K以下における自然由来系CO2/O2混合ガスについて，ノズル材からのPTFE蒸気に加えてアーク接触子からの銅蒸気が混入した状態における反応生成物は，銅蒸気から銅化合物が生成された。そのため，衝突電離係数ひいては臨界換算電界に影響を与えないことがわかった。本報告では，銅原子が多く存在する4000K-3000Kも加えて銅蒸気混入における衝突電離係数と電子付着係数の支配的な電子衝突反応を説明する。

要約(英語): Reaction product of CO2/O2 arc quenching gas contaminated copper and PTFE vapor at temperature below 3000K Below 3000 K, the copper compound CuF and CuF2 is formed from copper vapor. Thus, its collisional ionization coefficient and its dielectric breakdown properties are not affected. In this report, we describe the dominant electron collision reaction in in collision ionization coefficients and electron attachment coefficients for CO2/O2 arc quenching gas contaminated by copper vapor, including 4000K-3000K, where Copper atoms are abundant.

本誌: 2023年11月6日-2023年11月7日放電・プラズマ・パルスパワー/開閉保護/高電圧合同研究会-1

本誌掲載ページ: 45-50 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,206 Kバイト