対向ターゲット式スパッタ法で成膜したCoFeB-SiO2 を磁性コアとした平面スパイラルインダクタの作製プロセスの改善

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG23111

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2023/11/07

タイトル(英語): Improvement of fabrication process of planar type spiral inductors using a CoFeB-SiO2 magnetic core formed by facing targets sputtering

著者名: 仁田 帆南(東京工業大学),山中 希未斗(東京工業大学),宮﨑 達也(ローム),石戸 亮祐(ローム),藤﨑 敬介(豊田工業大学),中川 茂樹(東京工業大学),髙村 陽太(東京工業大学)

著者名(英語): Honami Nitta(Tokyo Institute of Technology),Kimito Yamanaka(Tokyo Institute of Technology),Tatsuya Miyazaki(ROHM),Ryosuke Ishido(ROHM),Kesuke Fujisaki(Toyota Technological Institute),Shigeki Nakagawa(Tokyo Institute of Technology),Yota Takamura(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 対向ターゲット式スパッタ法|軟磁性薄膜|平面スパイラルインダクタ|半導体製造プロセス|Facing targets sputtering|Soft magnetic thin films|planar type spiral inductors|Semiconductor manufacturing process

要約(日本語): 高周波パワーエレクトロニクス回路に用いる薄膜インダクタの低鉄損な磁性膜コアとして、対向ターゲット式スパッタ法(FTS)を用いて作製したCoFeB-SiO2グラニュラー薄膜が期待される。本研究では、この薄膜を磁性コアとする平面スパイラルインダクタを半導体プロセスで作製し、そのインダクタンス値のばらつきを評価した．ばらつき低減のために作製プロセスについても報告する。

要約(英語): CoFeB-SiO2 granular thin films fabricated with facing targets sputtering are expected as low iron-loss magnetic cores for thin-film inductors for high frequency power electronics circuits. In this study, planar type spiral inductors using this film as the magnetic core were fabricated and the variation of the inductance value was evaluated.

本誌: 2023年11月10日マグネティックス研究会

本誌掲載ページ: 25-30 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,485 Kバイト