酸化物透明導電膜の高速低温成膜及び低温固相結晶化法

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EFM23001

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子材料研究会

発行日: 2023/11/19

タイトル(英語): High speed and low temperature deposition and low-temperature solid phase crystallization to achieve highly transparent conductive oxide semiconductor films

著者名: 山本 哲也(高知工科大学)

著者名(英語): Tetsuya Yamamoto(Kochi University of Technology)

キーワード: 透明導電膜|酸化亜鉛|酸化インジウム|キャリア輸送|極薄膜|固相結晶化法|transparent conductive films|zinc oxide|indium oxide|carrier transport|ultra-thin films|solid-phase crystallization

要約(日本語): エコシステム材料として高速低温成膜及び低温後アニール法により多結晶形態の透明導電膜がガラス基板上で得られる酸化亜鉛と酸化インジウムについて、特にキャリア輸送の設計視点からの研究開発成果を紹介する。成膜法におけるコアテクノロジは高密度低温アークプラズマを特徴とする反応性プラズマ蒸着法である。縮退電子状態にある電気特性の膜厚依存性（膜厚 2nmから200nm）を議論し、キャリア輸送の支配因子を解明する。

要約(英語): We will provide the attractive characterization of ZnO and In2O3, which can be used as ecosystem materials that enable to fabricate transparent conductive films deposited on glass substrates by high-speed low-temperature deposition and low-temperature post-annealing. We will discuss electrical properties in degenerate electronic states (thicknesses ranging from 2 to 200 nm) and elucidate the governing factors of carrier transport.

本誌: 2023年11月22日-2023年11月23日電子材料研究会

本誌掲載ページ: 1-2 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,803 Kバイト