屈折率分布型レンズアレイ投影露光リソグラフィによる厚膜レジストパターン形成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV23010

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 光応用・視覚研究会

発行日: 2023/12/19

タイトル(英語): Feasibility of Thick Resist Patterning by Projection Lithography Using a Gradient-Index Lens Array as a Projection Lens

著者名: 堀内 敏行(東京電機大学),大塚 直幸(東京電機大学),福原 豪晴(東京電機大学),小林 宏史(東京電機大学)

著者名(英語): Toshiyuki Horiuchi(Tokyo Denki University),Naoyuki Otsuka(Tokyo Denki University),Takeharu Fukuhara(Tokyo Denki University),Hiroshi Kobayashi(Tokyo Denki University)

キーワード: 屈折率分布型レンズアレイ|投影露光|リソグラフィ|厚膜レジスト|大パターン形成|Gradient-index lens array|Projection exposure|Lithography|Thick resist|Printing of Large patterns

要約(日本語): 屈折率分布型レンズアレイを投影レンズとして、膜厚50μm以上の厚膜レジストで、アスペクト比1～2程度の垂直側壁パターンを形成する可能性を検討した。これ迄は、カタログの等価F値が1.79なので焦点深度が浅すぎて適用は困難と考えていたが、レジスト内で屈折率分だけ結像光線の集光角が狭められて焦点深度が増すためか、膜厚100μm以上のネガ型レジストSU-8に100μm L&Sパターンを形成できた。

要約(英語): Applicability of scan projection lithography using a gradient-index (GRIN) lens array to over 50-μm thick resist patterning was investigated. It was instinctively thought difficult to print such patterns judging from the equivalent F number of the GRIN lens optics. However, 100-μm L&S patterns over 100 μm thick were successfully printed.

本誌: 2023年12月22日光応用・視覚研究会

本誌掲載ページ: 1-6 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,341 Kバイト