マイクロ波プラズマCVDによるナノウォール構造体の生成条件と電気特性に関する研究
マイクロ波プラズマCVDによるナノウォール構造体の生成条件と電気特性に関する研究
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: DEI24024,EPP24024,HV24024
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 誘電・絶縁材料/【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー/【B】電力・エネルギー部門 高電圧合同研究会
発行日: 2024/01/16
タイトル(英語): Study on deposition condition and electrical characteristics of nanowall structures by microwave plasma enhanced CVD
著者名: Sun Zewen(九州大学),大寳 正太(九州大学),Nahar Arijun(九州大学),加藤 喜峰(九州大学),堤井 君元(九州大学)
著者名(英語): Zewen Sun(Kyushu University),Shota Otakara(Kyushu University),Arijun Nahar(Kyushu University),Yoshimine Kato(Kyushu University),Kungen Tsutsui (Teii)(Kyushu University)
キーワード: プラズマCVD|ナノ構造材料|電子デバイス|堆積条件|電気伝導性|電気計測|plasma CVD|nanostructured material|electronic device|deposition condition|electrical conduction|electrical measurement
要約(日本語): 炭素ナノウォールは多層グラフェンから成る構造体であり、大きな比表面積や高いアスペクト比を有するため、電気電子及び電気化学的な応用が期待されている。本研究では、マイクロ波プラズマCVDによるナノウォール構造体の生成条件と、その電気伝導性や金属に対する電気的接触について調べたので報告する。
要約(英語): Carbon nanowall structures consist of multi-layer graphene and can be applied for electrical/electronic and electrochemical devices. We investigated the deposition condition of carbon nanowall structures by microwave plasma enhanced CVD and their electrical characteristics.
本誌: 2024年1月19日-2024年1月20日誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会-2
本誌掲載ページ: 59-62 p
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,036 Kバイト
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