フェムト秒レーザ熱還元析出描画におけるグリオキシル酸Ni錯体インク中のポリビニルピロリドンのキャッピング効果

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD24001

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2024/03/25

タイトル(英語): Capping effect of polyvinylpyrrolidone in glyoxylic acid nickel complex ink on Ni direct writing using femtosecond laser pulse-induced thermochemical precipitation

著者名: 高橋 みのり(長岡技術科学大学),HA PHUONG NAM(長岡技術科学大学),大石 知司(芝浦工業大学),溝尻 瑞枝(長岡技術科学大学)

著者名(英語): Minori Takahashi(Nagaoka University of Technology),PHUONG NAM HA(Nagaoka University of Technology),Tomoji Ohishi(Shibaura Institute of Technology),Mizue Mizoshiri(Nagaoka University of Technology)

キーワード: フェムト秒レーザ|レーザ直接描画|グリオキシル酸Ｎｉ錯体|ニッケル|析出|キャッピング効果|femtosecond laser|laser direct writing|glyoxylic acid Ni complex|nickel|precipitation|capping effect

要約(日本語): フェムト秒レーザ還元析出法を用いたNiパターンの細線化をめざし，ポリビニルピロリドン(PVP)添加グリオキシル酸Ni錯体インクを用いて，描画特性を評価した．PVP添加インクを用いたNiパターンの最小線幅は0.78 ?mであり，レーザ回折限界以下となった．これはPVPがキャッピング作用を発現し，析出したNi粒子成長を抑制したためと考えられる．

要約(英語): Femtosecond laser direct writing properties using polyvinylpyrrolidone (PVP)-added glyoxylic Ni complex ink were evaluated. The minimum line width of the Ni pattern was 0.78 μm, which is below the laser diffraction limit. The result indicates that the PVP suppressed the growth of the precipitated Ni particles.

本誌: 2024年3月28日光・量子デバイス研究会

本誌掲載ページ: 1-3 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 434 Kバイト