タンデム型変調誘導熱プラズマ+原料間歇導入法におけるSi原料粉体の供給位相変更がSi/SiOxナノ材料大量生成に及ぼす影響の検討
タンデム型変調誘導熱プラズマ+原料間歇導入法におけるSi原料粉体の供給位相変更がSi/SiOxナノ材料大量生成に及ぼす影響の検討
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: EPP24057
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会
発行日: 2024/06/03
タイトル(英語): Influence of Si Powder Feedstock Injection Timing for Si/SiOx Nanomaterial Synthesis using Tandem Modulated Induction Thermal Plasmas with Time-Controlled Feedstock Feeding
著者名: 田中 伶郎(金沢大学),岡野 里桜(金沢大学),田中 康規(金沢大学),中野 裕介(金沢大学),石島 達夫(金沢大学),末安 志織(日清製粉),渡邉 周(日清製粉),中村 圭太郎(日清製粉)
著者名(英語): Reo Tanaka(Kanazawa University),Rio Okano(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Yusuke Nakano(Kanazawa University),Tatsuo Ishijima(Kanazawa University),Shiori Sueyasu(Nisshin Seifun Group Inc.),Shu Watanabe(Nisshin Seifun Group Inc.),Keitaro Nakamura(Nisshin Seifun Group Inc.)
キーワード: タンデム型パルス変調型誘導熱プラズマ|電磁熱流体解析|Si/SiOxナノ材料生成|原料供給位相変更|Tandem Type Pulse-Modulated Induction Thermal Plasma|Numerical Thermofuid Simulation|Si/SiOx Nanomaterial Synthesis|Feedstock Injection Timing
要約(日本語): 本報ではタンデム型変調誘導熱プラズマ(Tandem-MITP)と原料粉体の時間制御供給法(TCFF)を組み合わせたSi/SiOxナノ材料生成手法に対する原料供給位相変更の影響を,数値解析とSi/SiOxナノ材料生成実験から検討した.数値解析モデルでは熱プラズマの温度場,流速場,原料粉体挙動,Siナノ粒子の核生成・成長を考慮し,生成ナノ粒子の粒径度数分布を算出している.Si/SiOx生成実験では生成ナノ材料に対して粒径および組成を評価し原料供給位相変更の影響を検討した.
要約(英語): This report describes numerical and experimental studies about influence of feedstock injection timing on Si/SiOx nanomaterial synthesis using tandem modulated induction thermal plasmas(Tandem-MITP) with time-controlled feedstock feeding(TCFF).Our numerical model calculates Si nanoparticle nucleation and growth in temperature and gas flow fields and particle size distribution of synthesized nanoparticles in Tandem-MITP+TCFF method. We evaluated particle size and composition of nanoparticles produced in experiments at different feedstock injection timings.
本誌: 2024年6月6日-2024年6月7日放電・プラズマ・パルスパワー研究会
本誌掲載ページ: 111-116 p
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,844 Kバイト
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