クメンプラズマCVD法を用いたa-C:H膜製膜特性に対する基板バイアス電圧の効果

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EPP24059

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日: 2024/06/03

タイトル(英語): Effect of substrate bias voltage on a-C:H film deposition characteristics using cumene plasma CVD method

著者名: 恵利 眞人(九州大学),小野 晋次郎(九州大学),奥村 賢直(九州大学),山下 尚人(九州大学),鎌滝 晋礼(九州大学),木山 治樹(九州大学),板垣 奈穂(九州大学),古閑 一憲(九州大学),白谷 正治(九州大学)

著者名(英語): Manato Eri(Kyushu Univ.),Shinjiro Ono(Kyushu Univ.),Takamasa Okumura(Kyushu Univ.),Naoto Yamashita(Kyushu Univ.),Kunihiro Kamataki(Kyushu Univ.),Haruki Kiyama(Kyushu Univ.),Naho Itagaki(Kyushu Univ.),Kazunori Koga(Kyushu Univ.),Masaharu Shiratani(Kyushu Univ.)

キーワード: クメン|プラズマＣＶＤ|ダイヤモンドライクカーボン|Cumene|Plasma CVD|Diamond-like-carbon

要約(日本語): 本研究では、反応性プラズマ化学気相堆積法を用いた高密度カーボン薄膜の高速製膜を検討している。我々は、クメンを材料分子としてプラズマを生成し、基板バイアス電圧の効果について検討した。ここでは、基板バイアスと製膜特性の相関について報告する。

要約(英語): In this study, we studied the high rate deposition of hydrogenated amorphous carbon films with high density using reactive plasma chemical vapor deposition (CVD). We have studied effects of substrate bias voltage on deposition characteristics using Cumene as ingredient molecules. Here, we will show experimental results on the correlation between substrate bias voltage and deposition characteristics.

本誌: 2024年6月6日-2024年6月7日放電・プラズマ・パルスパワー研究会

本誌掲載ページ: 123-126 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 690 Kバイト