透明ポリマー基板上での厚膜レジストの微細構造パターニング

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS24048

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2024/07/01

タイトル(英語): Micropatterning of Thick Photoresist on a Transparent Polymer Substrate

著者名: 後藤 龍人(群馬大学),森下 浩多(群馬大学),武川 純(JSR),田中 有弥(群馬大学),鈴木 孝明(群馬大学)

著者名(英語): Ryuto Goto(Gunma University),kota Morishita(Gunma University),Jun Mukawa(JSR Corporation),yuya Tanaka(Gunma University),takaaki suzuki(Gunma University)

キーワード: ポリマーＭＥＭＳ|フレキシブルデバイス|厚膜フォトレジスト|フォトリソグラフィ|polymer MEMS|flexible device|thick photoresist|photolithography

要約(日本語): 微細加工技術によりフレキシブルMEMSを作製する際にハンドリング基板がよく用いられるが，最終段階で除去・リリース工程が必要であり，デバイスの歩留まり悪化の原因になることがある．そこで本研究では，構造材や簡単なリリース層として利用可能な透明ポリマーフィルムを基板に用いた厚膜レジスト向けのフォトリソグラフィ法を提案する．サポート治具を用いて操作することで，微細構造のパターニングを可能にした．

要約(英語): This study proposes a photolithography method for thick resist using transparent polymer films as substrates, which can be used as structural materials or simple release layers. By utilizing support jigs, microstructure patterning is made possible, addressing the issue of handling substrate removal and release processes in flexible MEMS production.

本誌: 2024年7月4日-2024年7月5日マイクロマシン・センサシステム研究会

本誌掲載ページ: 83-85 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,347 Kバイト