二重層マスクプロセスを用いたチタン製微小構造体の作製

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS24051

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2024/07/01

タイトル(英語): Fabrication of titanium microstructures using a double-layer mask process

著者名: QIN YIZHI(新潟大学),海野 一真(新潟大学),大石 恭徳(新潟大学),寒川 雅之(新潟大学),安部 隆(新潟大学)

著者名(英語): YIZHI QIN(Niigata University),Kazuma Kaino(Niigata University),Yasunori Oishi(Niigata University),Masayuki Sohgawa(Niigata University),Takashi Abe(Niigata University)

キーワード: ＭＥＭＳ|センサ・デバイス|チタン|絶縁膜|電解エッチング|微細加工|MEMS|Sensors & Devices|titanium|insulating film|electrolytic etching|microfabrication

要約(日本語): センサ・デバイスへ応用するためのチタン製微小構造体を作製するためには、絶縁膜作製プロセスと立体的な微細加工技術が重要である。本研究では、反りなしでチタン箔にアルミナ絶縁膜を作製するプロセスおよびそのアルミナ薄膜とフォトレジストをマスクとした二重層マスクを用いて、電解エッチング法で厚さ違いのあるカンチレバーなどの微小構造体を作製する技術を開発したので報告する。

要約(英語): To fabricate titanium microstructures for application in sensors and devices, the insulating film fabrication process and three-dimensional microfabrication techniques are important. This study reports on the development of a process to fabricate alumina insulating films on titanium foil without warpage and a technique to fabricate microstructures such as cantilevers with different thicknesses by electrolytic etching using a double-layer mask consisting of the alumina film and a photoresist mask.

本誌: 2024年7月4日-2024年7月5日マイクロマシン・センサシステム研究会

本誌掲載ページ: 95-100 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,517 Kバイト