可視光領域の分光に向けたフィルタフリー分光センサの作製
可視光領域の分光に向けたフィルタフリー分光センサの作製
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: BMS24020
グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 バイオ・マイクロシステム研究会
発行日: 2024/07/01
タイトル(英語): Fabrication of filter-free spectroscopic sensor for visible light spectrum analysis
著者名: 加藤 結衣(豊橋技術科学大学),崔 容俊(豊橋技術科学大学),仲野 翔(豊橋技術科学大学),井出 智也(豊橋技術科学大学),野田 佳子(豊橋技術科学大学),飛沢 健(豊橋技術科学大学),赤井 大輔(豊橋技術科学大学),木村 安行(豊橋技術科学大学),高橋 一浩(豊橋技術科学大学),野田 俊彦(豊橋技術科学大学),澤田 和明(豊橋技術科学大学)
著者名(英語): Yui Kato( Toyohashi University of Technology),Yong Joon Choi( Toyohashi University of Technology),Kakeru Nakano(Toyohashi University of Technology),Tomoya Ide( Toyohashi University of Technology),Yoshiko Noda( Toyohashi University of Technology),Takeshi Hizawa( Toyohashi University of Technology),Daisuke Akai( Toyohashi University of Technology),Yasuyuki Kimura( Toyohashi University of Technology),kazuhiro Takahashi(Toyohashi University of Technology),Toshihiko Noda(Toyohashi University of Technology),Kazuaki Sawada(Toyohashi University of Technology)
キーワード: フィルタフリー|分光センサ|分光分析|エピタキシャル基板|filter-free|spectroscopic sensor|spectral analysis |epitaxial substrate
要約(日本語): 本稿では、単画素で分光分析が可能な受光素子の実現に向けたフィルタフリー分光センサについて報告する。シリコン内部のポテンシャルピークを大幅に変位するため、エピタキシャルの層が20 μmであるn型シリコンウエハ上で1-poly、2-metal、5 μmルールにてデバイスの作製を行った。提案するセンサの検証として2波長分光計測を行い、異なる波長の光強度が求められ、小型分光デバイスの実現が期待される。
要約(英語): In this study, we fabricated a filter-free spectroscopic sensor on an epitaxial silicon wafer with low impurity concentration to realize a spectral analysis with a single pixel. The proposed sensor structure uses n-type silicon wafers with 20 μm epitaxial layers and was fabricated at the LSI factory of Toyohashi University of Technology.
本誌: 2024年7月4日-2024年7月5日バイオ・マイクロシステム研究会
本誌掲載ページ: 49-52 p
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,479 Kバイト
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