パワーインダクターへの活用を目指したポーラスフェライト膜の作製

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG24062

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2024/08/05

タイトル(英語): Preparation of anodized porous ferrite films for power inductors

著者名: 甲元 陸羽(奈良工業高等専門学校),遠藤 恭(東北大学),伊埼 昌伸(奈良工業高等専門学校),藤田 直幸(奈良工業高等専門学校)

著者名(英語): Rikuha Koumoto(National Institute of Technology, Nara College),Yasushi Endo(Tohoku University),Masanobu Izaki(National Institute of Technology, Nara College),Naoyuki Fujita(National Institute of Technology, Nara College)

キーワード: ポーラスアルミナ|陽極酸化|ナノポーラス構造|高周波磁性材料|インダクタ|熱処理条件|Porous alumina|Anodization|Nano porous structure|High frequency magnetic materials|Inductor|Heat treatment conditions

要約(日本語): 強磁性を示すポーラスフェライト膜の孔に強磁性金属微粒子を電析で埋め込んだ新規な高周波磁性材料の開発を目指している。その最初の段階として，Feを陽極酸化して得られるポーラスフェライト膜の成膜に取り組んだ。その結果，350℃以上で熱処理を行うことでFe3O4単相膜ができることが確認できた。また，523Kで30分保持した後さらに623Kで30分熱処理をする二段階熱処理を行うことでポーラス構造を維持した状態のFe3O4単相膜の作製に成功した。

要約(英語): Porous ferrite films were prepared by anodic oxidation of Fe. A single phase Fe3O4 film with nanoporous structure could be obtained by a two-step heat treatment: holding at 523 K for 30 min and then annealing at 623 K for 30 min.

本誌: 2024年8月8日-2024年8月9日マグネティックス研究会

本誌掲載ページ: 63-68 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 952 Kバイト