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回転放物面鏡立体投影露光光学系の投影歪の計算と レチクル修正による投影歪の補正

回転放物面鏡立体投影露光光学系の投影歪の計算と レチクル修正による投影歪の補正

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: LAV24014

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 光応用・視覚研究会

発行日: 2024/08/26

タイトル(英語): Calculations of Distortions Caused by Stereophonic Projection Optics Using Paraboloid Mirrors and Distortion Compensations by Reticle Modifications

著者名: 堀内 敏行(東京電機大学),岩崎 順哉(東京電機大学),小林 宏史(東京電機大学)

著者名(英語): Toshiyuki Horiuchi(Tokyo Denki University),Jun-ya Iwasaki(Tokyo Denki University),Hiroshi Kobayashi(Tokyo Denki University)

キーワード: 立体面投影露光|回転放物面ミラー|大パターン|投影歪|歪補正|レチクル補正|Stereophonic projection exposure|Paraboloid mirror|Rough pattern|Projection distortions|Distortion Compensation|Reticle modification

要約(日本語): 回転放物面鏡立体投影光学系を用い、平面レチクルを使用して曲面被露光物上に大パターンを形成する投影露光リソグラフィ技術を検討した。まず、下ミラー底部の平面レチクルパターンが上ミラー開口の結像面に投影されるときの格子点座標を計算し、実際の投影露光結果とよく合致することを確かめた。そして、計算上、12mm角正方格子が転写できるように補正したレチクルを用い、歪のない正方格子を平面ウエハに転写した。

要約(英語): Projection lithography using paraboloid mirrors were investigated. Distortions caused by the projection optics were calculated. The calculation results well coincided with the experimental ones. When patterns on a flat reticle were modified so as the calculated patterns became the expected ones, they were successfully replicated on a silicon wafer.

本誌: 2024年8月29日光応用・視覚研究会

本誌掲載ページ: 19-24 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 631 Kバイト

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