溶液を用いる半導体薄膜堆積

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: EFM24002

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 電子材料研究会

発行日: 2024/11/25

タイトル(英語): Semiconductor Thin film Depositions using Chemical Solutions

著者名: 市村 正也(名古屋工業大学)

著者名(英語): Masaya Ichimura(Nagoya Institute of Technology)

キーワード: 薄膜堆積|半導体|化学溶液|酸化物|硫化物|電気化学堆積|thin film deposition|semiconductor|chemical solutions|oxides|sulfides|electrochemical deposition

要約(日本語): 溶液を用いる半導体薄膜の化学的堆積では、(1)容器に入れた溶液中で堆積する、または(2)塗布や滴下などで基板上に置いた溶液層から堆積する。講演では、(1)として、電気化学堆積法、光化学堆積法の実験結果を報告する。(2)としてはドロップ蒸発法について報告する。これら手法は簡便安価な装置で堆積が可能であり、太陽電池など低コストでの製膜が必要な用途に適している。

要約(英語): Methods of semiconductor thin-film depositions using chemical solutions are reviewed. In those methods, (1) the deposition is performed in a solution in a container, or (2) a film is formed from a solution layer loaded on a substrate. Some experimental results of both the types of depositions will be reported.

本誌: 2024年11月28日-2024年11月29日電子材料研究会

本誌掲載ページ: 5-6 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 995 Kバイト