フェムト秒レーザ誘起ナノドット構造形成シリコン太陽電池の大腸菌に対するフィルム密着法
フェムト秒レーザ誘起ナノドット構造形成シリコン太陽電池の大腸菌に対するフィルム密着法
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: LAV24016
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 光応用・視覚研究会
発行日: 2024/12/15
タイトル(英語): The film attachment method for escherichia coli to nanodot structured on silicon solar cell surface induced by femtosecond laser
著者名: 本多 洋輝(東海大学),片倉 惇朗(東海大学),岡崎 未来瑠(東海大学),岩森 暁(東海大学),橋田 昌樹(東海大学)
著者名(英語): Hiroki Honda(Tokai University),Atsuo Katakura(Tokai University),Mikuru Okazaki(Tokai University),Satoru Iwamori(Tokai University),Masaki Hashida(Tokai University)
キーワード: フェムト秒レーザ|ナノドット構造|シリコン太陽電池|抗菌効果|大腸菌|Femtosecond laser|Nanodot structures|Silicon solar cells|antibacterial effects|escherichia coli
要約(日本語): ナノドット構造形成実験は、フェムト秒レーザ(??= 515 nm、??= 150 fs、R = 2500 Hz、N = 2000 パルス) を0.10 J/cm2と0.03 J/cm2のフルエンスをシリコン太陽電池表面に照射することで行った。抗菌効果を期待するナノ構造は、体として、2.5cm×2.5cm四方のシリコン太陽電池表面に高密度のナノドットを形成し、フィルム密着法により、大腸菌に対する抗菌試験を行った。未形成シリコン太陽電池と比較し、抗菌効果の有無を調べた。
要約(英語): For producing nanodot structures experiment, femtosecond laser (??= 515 nm、??= 150 fs、R = 2500 Hz、N = 2000 pulses)was irradiated on silicon solar cell with the laser fluence of 0.10 J/cm2 or 0.03 J/cm2. The film attachment method for escherichia coli was applied to nanodot structure on silicon solar cell surface induced by femtosecond laser.
本誌掲載ページ: 5-8 p
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,392 Kバイト
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