超高速高精細電子線描画を用いたナノギャップの作製

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS25002

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2025/01/28

タイトル(英語): Nanogap Fabrication with High-thoughput and High-resolution EB Lithography

著者名: 肥後 昭男(東京大学),落合 幸徳(東京大学),三田 吉郎(東京大学)

著者名(英語): Akio HIGO(The University of Tokyo),Yukinori Ochiai(The University of Tokyo),Yoshio MITA(The University of Tokyo)

キーワード: フォトニクス|プラズモニック構造|赤外領域|photonics|plasmonic structure|Near-IR

要約(日本語): プラズモニック材料、フォトニクス材料などで盛んに研究されているナノ周期構造体の大面積・高精細パターニングが最近メタサーフェスなどで要求されるようになっている。そこで、本研究では1次元キャラクタープロジェクション法と可変成形ビーム法を組み合わせたプラズモニック構造として16nmのナノギャップを有する周期構造の描画手法について報告する。

要約(英語): Large area and high-throughput electron beam direct patterning for nano-periodic structures, which have been actively studied in plasmonic and photonic materials, is recently required for metasurfaces and other applications. We report to realizing periodic structures with a nano-gap of 16 nm as plasmonic structures by combining 1D character projection and variable-shaped beam methods.

本誌: 2025年1月31日マイクロマシン・センサシステム研究会

本誌掲載ページ: 5-6 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,112 Kバイト