光干渉型MEMS表面応力センサの高密度アレイ化に向けた水圧転写プロセスの検討
光干渉型MEMS表面応力センサの高密度アレイ化に向けた水圧転写プロセスの検討
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: MSS25049
グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会
発行日: 2025/05/26
タイトル(英語): Investigation of Hydraulic Transfer Process for High-density Arrayed Optical Interferometric MEMS Surface Stress Sensors
著者名: 吉田 宇良(豊橋技術科学大学),十亀 龍星(豊橋技術科学大学),崔 容俊(豊橋技術科学大学),野田 俊彦(豊橋技術科学大学),澤田 和明(豊橋技術科学大学),高橋 一浩(豊橋技術科学大学)
著者名(英語): Sora Yoshida(Toyohashi University of Technology),Ryusei Sogame(Toyohashi University of Technology),Yong Joon Choi(Toyohashi University of Technology),Toshihiko Noda(Toyohashi University of Technology),Kazuaki Sawada(Toyohashi University of Technology),Kazuhiro Takahashi(Toyohashi University of Technology)
キーワード: ファブリペロー干渉計|水圧転写|微小電気機械システム|表面応力センサ|ナノシート|Fabry-Perot interferometer|hydraulic transfer|microelectromechanical systems|surface stress sensor|nanosheet
要約(日本語): 本稿では光干渉型MEMSセンサの高密度アレイ化に向けて、自立膜を10 nm以下まで薄膜化するプロセスを検討した。従来の手法ではナノ薄膜をリリースし、水面に浮かべた状態のまま水圧転写を行っていたが、界面活性剤を塗布した面が上向きであり、アミノ基に悪影響を及ぼしていたためレセプター修飾を行うことができなかった。そこでパリレンナノ薄膜を水面上で水圧を利用して転写する新たなセンサの作製プロセスについて検討を行った。
要約(英語): We investigated a fabrication process for a high-density array of optical interferometric MEMS sensors with 10-nm-thick freestanding membrane. The conventional method could not perform receptor modification due to the influence of surfactants. Therefore, a new sensor fabrication process using hydraulic transfer was investigated.
本誌: 2025年5月29日-2025年5月30日マイクロマシン・センサシステム研究会
本誌掲載ページ: 27-31 p
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 2,409 Kバイト
受取状況を読み込めませんでした
