単結晶シリコンにおける低濃度アルカリウェットエッチングに及ぼす黒鉛の影響

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS25058,CHS25033,BMS25020

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム/【E】センサ・マイクロマシン部門 ケミカルセンサ/【E】センサ・マイクロマシン部門 バイオ・マイクロシステム合同研究会

発行日: 2025/05/26

タイトル(英語): Effect of Graphite on the Wet Etching of Single Crystal Silicon in Low Concentration Alkaline solution

著者名: 木村 謙吾(愛知工業大学),田中 浩(愛知工業大学)

著者名(英語): Kengo Kimura(Aichi Institute of Technology),Hiroshi Tanaka(Aichi Institute of Technology)

キーワード: ウェットエッチング|シリコン|黒鉛|アルカリ水溶液|カーボン蒸着|wetetching|silicon|graphite|alkaline solution|carbon deposition

要約(日本語): 我々はシリコン異方性ウェットエッチングのグリーンプロセスの実現を目指し、低濃度アルカリ液でのエッチング技術の開発を行っている。_x000D_ これまでに1％KOH水溶液に黒鉛を添加することで、低濃度アルカリでも高速・平滑化できることを明らかにした。_x000D_ 黒鉛の作用メカニズムを検討中であり、今回、エッチング前にウェハにカーボン蒸着し、黒鉛分散液でエッチングを行ったときの影響、及びSi(100)面、(110)面のエッチング速度への影響を調査した。_x000D_

要約(英語): We have developed a green silicon wet etching process. Adding graphite particles to 1% KOH enables fast and smooth etching. However, its mechanism is unclear. This study investigate the effects of etching carbon-deposited on silicon wafers with a graphite-dispersed solution and its impact on Si(100) and (110) surfaces.

本誌: 2025年5月29日-2025年5月30日マイクロマシン・センサシステム/ケミカルセンサ/バイオ・マイクロシステム合同研究会

本誌掲載ページ: 1-3 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,157 Kバイト