RFプラズマへのパルス磁場印加によるイオンビーム生成と散乱過程の数値解析

カテゴリ：研究会(論文単位)

論文No：EPP25047

グループ名：【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日：2025/6/8

タイトル(英語)：Numerical study on generation and scattering process of ion beam by applying pulsed magnetic field to RF plasma

著者名：小澤 一輝(富山大学),竹崎 太智(富山大学),伊藤 弘昭(富山大学)

著者名(英語)： Kazuki OZAWA(University of Toyama),Taichi TAKEZAKI(University of Toyama),Hiroaki ITO(University of Toyama)

キーワード：

要約(日本語)：我々は定常プラズマとパルス磁場の相互作用によるイオンビーム生成過程を調査している。ビーム電流の向上には、ビームを担うイオン数の増加にともなう衝突頻度の上昇を考慮し、適切なプラズマの温度や密度、印加磁場の検討が必要である。本研究では、衝突項を考慮したHybrid PIC シミュレーションにより、パルス磁場中でのRF プラズマ挙動を解析した。解析結果はパルス磁場印加によるイオンビーム生成と散乱過程を示した。

要約(英語)：We investigate ion beam generation by interactions between steady plasma and pulsed magnetic fields. To improve the beam current, it is necessary to discuss suitable plasma parameters and the applied magnetic field, considering particle collisions by increasing beam ions. A hybrid PIC simulation with particle collisions was performed to analyze the behavior of RF plasma with pulsed magnetic fields.

本誌：2025年6月11日-2025年6月13日放電・プラズマ・パルスパワー研究会-1

本誌掲載ページ：5-8p

原稿種別：日本語

PDFファイルサイズ：1181Kバイト