静電プローブ法を用いたRFプラズマと垂直パルス磁場の相互作用の評価

カテゴリ：研究会(論文単位)

論文No：EPP25048

グループ名：【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日：2025/6/8

タイトル(英語)：Investigation of Interaction between RF Plasma and Perpendicular Pulsed Magnetic Field Using Electrostatic Probe

著者名：坂森 圭(富山大学),夏野 友吾(富山大学),竹崎 太智(富山大学),伊藤 弘昭(富山大学)

著者名(英語)： Kei SAKAMORI(University of Toyama),Yugo NATSUNO(University of Toyama),Taichi TAKEZAKI(University of Toyama),Hiroaki ITO(University of Toyama)

キーワード：

要約(日本語)：プラズマとパルス磁場の相互作用を利用したイオンビーム生成方式が提案されている。数値解析により、イオンビーム生成にはプラズマの密度変調が重要な物理過程であることが示唆されている。本研究では、プラズマとパルス磁場の相互作用を評価するため、RFプラズマにパルス磁場を印加した時のプラズマパラメータを静電プローブ法によって計測した。パルス磁場印加による電子温度、電子数密度の時間変化が観測された。

要約(英語)：In this study, the behavior of an RF plasma subjected to a perpendicular pulsed magnetic field was measured using an electrostatic probe to investigate plasma density modulation, which plays an important role in the ion beam generation process via plasma-magnetic field interactions. The results showed the temporal variations of the electron temperature and density by the magnetic field.

本誌：2025年6月11日-2025年6月13日放電・プラズマ・パルスパワー研究会-1

本誌掲載ページ：9-11p

原稿種別：日本語

PDFファイルサイズ：1,583Kバイト