タンデム型変調誘導熱プラズマSiナノ粒子生成法におけるシースガスの投入角度の影響に対する数値解析的検討

カテゴリ：研究会(論文単位)

論文No：EPP25055

グループ名：【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日：2025/6/8

タイトル(英語)：Numerical Study on Input Sheath Gas Angle for Si Nanoparticle Synthesis using Tandem Modulated Induction Thermal Plasmas with Time-Controlled Feedstock Feeding

著者名：田中 伶郎(金沢大学),岡野 里桜(金沢大学),田中 康規(金沢大学),中野 裕介(金沢大学),石島 達夫(金沢大学),末安 志織(日清製粉グループ本社),渡邉 周(日清製粉グループ本社),中村 圭太郎(日清製粉グループ本社)

著者名(英語)： Reo Tanaka(Kanazawa University),Rio Okano(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Yusuke Nakano(Kanazawa University),Tatsuo Ishijima(Kanazawa University),Shiori Sueyasu(Nisshin Seifun Group Inc),Shu Watanabe(Nisshin Seifun Group Inc),Keitaro Nakamura(Nisshin Seifun Group Inc)

キーワード：タンデム型パルス変調型誘導熱プラズマ,Ｓｉナノ粒子生成,電磁熱流体解析,シースガスの投入角度,Tandem Type Pulse-Modulated Induction Thermal Plasma,Si Nanoparticle Synthesis,Numerical Thermofuid Simulation,Input Sheath Gas Angle

要約(日本語)：本研究室ではタンデム型変調誘導熱プラズマ(Tandem-PMITP)と原料粉体の時間制御供給(TCFF)法を組み合せたSiナノ材料大量生成法を開発している．本報ではTandem-PMITP+TCFF法を用いたSiナノ粒子生成におけるシースガスの投入角度の影響を数値解析的に検討した.その結果，スワール強度が強い場合，より多くの原料粉体が熱プラズマの高温部に輸送され，ナノ粒子の生成量が大きく増加することがわかった.

要約(英語)：This report describes influence of input sheath gas angle on Si nanoparticle synthesis using Tandem-PMITP+TCFF method. Results indicated that more feedstock particles are transported into high-temperature region in tandem-PMITP changing input sheath gas angle, which results in more evaporation and then more nanoparticles synthesized.

本誌：2025年6月11日-2025年6月13日放電・プラズマ・パルスパワー研究会-1

本誌掲載ページ：47-52p

原稿種別：日本語

PDFファイルサイズ：3,289Kバイト