タンデム型変調誘導熱プラズマの中段Arガス連続・間歇導入がSiナノ粒子生成に与える影響の数値解析的検討

カテゴリ：研究会(論文単位)

論文No：EPP25056

グループ名：【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日：2025/6/8

タイトル(英語)：Numerical Simualtion of Influence of Continuous and Intermittent Ar Gas Injection from Middle Flange of Tandem Modulated Induction Thermal Plasma on Si Nanoparticle Synthesis.

著者名：小林 義隆(金沢大学),岡野 里桜(金沢大学),田中 伶郎(金沢大学),田中 康規(金沢大学),石島 達夫(金沢大学),中野 裕介(金沢大学),末安 志織(日清製粉グループ本社),渡邉 周(日清製粉グループ本社),中村 圭太郎(日清製粉グループ本社)

著者名(英語)： Noritaka Kobayashi(Kanazawa University),Rio Okano(Kanazawa university),Reo Tanaka(Kanazawa university),Yasunori Tanaka(Kanazawa university),Tatsuo Ishijima(Kanazawa university),Yusuke Nakano(Kanazawa university),Shiori Sueyasu(Nisshin Seifun Group Inc.),Shu Watanabe(Nisshin Seifun Group Inc.),Keitaro Nakamura(Nisshin Seifun Group Inc.)

キーワード：シリコンナノ粒子,電磁熱流体解析,タンデム型変調誘導熱プラズマ,間歇供給,Silicon nanoparticles,Electromagnetic thermal fluid simulation,Tandem modulated induction thermal plasma,Intermittent supply

要約(日本語)：筆者らは二つのコイルとRF電源からなるタンデム型変調誘導熱プラズマ装置による機能性ナノ材料の大量生成手法を開発、モデル化し、実験と数値計算を行ってきた。タンデム型変調誘導熱プラズマ装置において２つのコイルの中間からArガスを投入し温度場を制御することでナノ粒子のさらなる大量生成が期待される。本稿では数値解析的手法を用いて中段Arガス導入法が熱プラズマとナノ粒子生成量に与える影響を検討した。

要約(英語)：Numerical simulation was performed to investigate the effects of continuous and intermittent Ar gas injection from the middle flange, which is installed between the two coils of a tandem modulated induction thermal plasma system, on the temperature field and the production of Si nanoparticles.

本誌：2025年6月11日-2025年6月13日放電・プラズマ・パルスパワー研究会-1

本誌掲載ページ：53-58p

原稿種別：日本語

PDFファイルサイズ：3,610Kバイト