大気圧プラズマを用いた絶縁性薄膜の形成技術の開発

カテゴリ：研究会(論文単位)

論文No：EPP25071

グループ名：【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー研究会

発行日：2025/6/8

タイトル(英語)：Development of insulating thin film formation using atmospheric pressure plasma

著者名：前川 朔輝(長岡技術科学大学),花見 優太郎(長岡技術科学大学),佐々木 徹(長岡技術科学大学),菊池 崇志(長岡技術科学大学),高橋 一匡(長岡技術科学大学)

著者名(英語)： Motoki Maegawa(Nagaoka University of Technology),Yutaro Hanami(Nagaoka University of Technology),Toru Sasaki(Nagaoka University of Technology),Kikuchi Takashi(Nagaoka University of Technology),Kazumasa Takahashi(Nagaoka University of Technology)

キーワード：大気圧プラズマ,誘電体バリア放電,導電性接着剤,撥水材,絶縁膜,薄膜,Atmospheric Pressure Plasma,Dielectric Barrier Discharge,Conductive Adhesive,Water-repellent material,Insulating film,Thin film

要約(日本語)： 本研究では、大気圧下でプラズマを生成可能な誘電体バリア放電を、導電性接着剤および撥水剤（KF-96）に照射し、絶縁性薄膜の形成技術を検討した。その結果、単独処理に比べ、複数処理である導電性接着剤表面に薄膜を形成後、撥水剤を重ねて照射する処理方法を用いることで、絶縁性の高い薄膜が形成された。また、FT-IR分析では、複数処理が単独処理より、吸収率が高く優れ、KF-96に由来する結果が得られた。

要約(英語)：This study investigates dielectric barrier discharge plasma under atmospheric pressure for forming insulating films on conductive adhesive and water repellent (KF-96). Layered treatment produced superior insulation. FT-IR analysis showed higher absorbance in multiple treatments compared to single treatments, indicating improved film quality.

本誌：2025年6月11日-2025年6月13日放電・プラズマ・パルスパワー研究会-2

本誌掲載ページ：59-64p

原稿種別：日本語

PDFファイルサイズ：2,135Kバイト