磁性ゲルめっき膜創製における廃液低減に関する検討

カテゴリ：研究会(論文単位)

論文No：MAG25050

グループ名：【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日：2025/6/17

タイトル(英語)：Reduction in waste of gel-plating for preparation of soft magnetic films

著者名：白木 紘太(長崎大学),田代 真友梨(長崎大学),山下 昂洋(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語)： Kota Shiraki(Nagasaki University),Mayuri Tashiro(Nagasaki University),Akihiro Yamashita(Nagasaki University),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University)

キーワード：電解めっき,磁性膜,ゲルめっき,電流効率,添加剤,Electroplating,Magnetic films,Gel plating,Current efficiency,Additives

要約(日本語)：本研究室では、廃液の低減を目的として、ゲル状電解質を用いた軟磁性めっき膜の創製に関する検討を進めている。これまでの検討においては、基板（陰極）への磁性金属イオンの拡散を促進することで、電流効率および磁気特性が向上することを確認している。従来検討の結果から、ゲル内に存在する磁性金属イオンのうち、実際に成膜に寄与するのは陰極近傍に存在するイオンに限られると予想した。本検討では、陽極にNiを用いたCoの成膜を行い、陽極近傍に存在するCoイオンは成膜にほとんど寄与しないことを明らかにした。この結果は、さらなる廃液低減の可能性を示すものである。

要約(英語)：We recently reported a gel-plating method to obtain soft magnetic films. Our previous study confirmed that promoting the diffusion of magnetic metal ions to the substrate (cathode) improves current efficiency and magnetic properties. From these results, we considered that the only magnetic metal ions near the cathode contributed to the film’s formation. The present study electroplates Co films using Ni sheet as the anode and confirms that the Co ions near the anode do not contribute to the film’s formation.

本誌：2025年6月20日マグネティックス研究会

本誌掲載ページ：7-10p

原稿種別：日本語

PDFファイルサイズ：540Kバイト